Alternance:analyse de Défectivité Des Procédés

Il y a 2 mois

Grenoble, France CEA - Commissariat à l'Energie Atomique Temps plein

**Domaine**:
Technologies micro et nano

**Contrat**:
Alternance

**Durée du contrat (en mois)**:
12

**Description de l'offre**:
**Analyse de défectivité des procédés avancés de lithographie par nanoimpression**

Une des alternatives montantes et bas coût de la photolithographie, procédé de base de la fabrication de composant micro-electronique, est la lithographie par nanoimpression. Le Leti travaille avec un partenaire sur le développement de cette dernière. De nombreux progrès ont déjà été faits afin de rapprocher la technique des besoins du marché : résolution, vitesse de traitement et qualité d’alignement. Cependant, le nombre de défauts induits par cette technique reste aujourd’hui trop important pour la réalisation de composants clés tels que les transistors. Il est donc primordial et nécessaire de quantifier et analyser cette défectivité pour remonter aux mécanismes de défaillance et améliorer encore la technique de lithographie par nanoimpression.

Vous serez intégré à la fois à l’équipe de lithographie par nanoimpression (DPFT/SPAT/LLIT) et à l’équipe défectivité (DPFT/SMCP/L2MD). L’objectif principal sera de mesurer la défectivité sur les plaques de silicium structurées par nanoimpression et, après analyses, faire le lien avec les paramètres de ce procédé d’impression.

Vous serez formé à l’utilisation des équipements de nanoimpression et leurs principes de base. Vous serez également formé aux techniques de la défectivité : détection, revue (imagerie MEB) et analyse de défauts. Grâce aux outils de post-traitement industriels déjà disponibles, vous pourrez produire des rapports défectivité (cartographies, graphes) permettant d’apporter une vision éclairée sur le type et la nature des défauts et les premières voies d’améliorations à mettre en œuvre. A la fin de l’alternance, une procédure complète de traitement devra être testée et mise en place.

En filière par alternance dans le but de préparer un M2 ou dernière année d'école d'ingénieur dans les secteurs de la nano/micro technologie, les matériaux, la physique.

**Localisation du poste**:
**Site**:
Grenoble

**Localisation du poste**:
France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)

**Ville**:
Grenoble

**Langues**:

- Français (Courant)
- Anglais (Courant)

**Demandeur**:
**Disponibilité du poste**:
01/09/2023

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    il y a 2 semaines

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    il y a 2 semaines

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    Nous rejoindre, pour quoi faire ?Au sein du laboratoire de lithographie, vous ferez partie d'une équipe projet focalisée sur le développement de techniques de photolithographie pour les noeuds technologiques les plus avancés.Au sein de cette équipe, vous aurez en charge les actions suivantes :- Développer des procédés de lithographie pour des...

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    L'intégration pour la réalisation de substrats innovants consiste en un enchainement de procédés technologiques (dépôt, recuit, implantation) réalisé en salle blanche. Elle est mise en oeuvre par les ingénieurs filière, avec le support des techniciens filière, et selon les indications du chef de projet.Dans le cadre de ce poste, vous :-...

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