Thesege Substrate Obtained Ge Condensation Ir

**THESEGe substrate obtained Ge condensation IR photodiodes M/F**:

- Réf
- **ABG-110222**
- Sujet de Thèse- Junior- 13/01/2023- CDI- Stmicroelectronics- Lieu de travail- Crolles - Auvergne-Rhône-Alpes - France- Intitulé du sujet- THESEGe substrate obtained Ge condensation IR photodiodes M/F- Champs scientifiques- Electronique

**Description du sujet**:
STMicroelectronics développe et fabrique des capteurs d'image CMOS. Dans un tel dispositif, le substrat en Silicium absorbe la lumière et la transforme en courant électrique, qui peut alors être mesuré afin de générer une photographie de la scène visée. Ce mécanisme de transformation de la lumière en courant électrique, appelé Efficacité Quantique, influe fortement sur les performances du capteur d'image (rapport signal/bruit, consommation ). Pour les longueurs d'onde supérieures à 400nm, le Silicium a une faible efficacité quantique. Par contre, le Germanium, ayant un gap plus petit que celui du Silicium, a une efficacité quantique bien plus élevée. Ce stage propose donc d'étudier la réalisation de substrat à base de Germanium et Silicium-Germanium afin d'améliorer les performances des futures générations de capteurs d'images CMOS.
Rattaché à l'équipe « Traitement thermique R&D », vous aurez la charge de réaliser vos propres échantillons, en utilisant des procédés comme l'épitaxie de Ge ou de SiGe et l'oxydation thermique, entre autres. Une couche de Ge, épitaxiée sur du Si, a naturellement une contrainte mécanique interne qui peut se relâcher grâce à la formation de défauts cristallins, comme des dislocations, qui sont fortement néfastes pour le bon fonctionnement du dispositif final. Vous étudierez donc l'influence des paramètres des procédés sur la génération de défauts cristallins. Pour cela, vous réaliserez des caractérisations poussées de vos échantillons : mesure d'épaisseur (ellipsométrie, XRR), caractérisation physico-chimique (SIMS, XPS ), mesure des défauts cristallins (photoluminescence, diffusion de Rayleigh).
Vous aurez à créer votre plan d'expérimentation, à le mettre en oeuvre en salle blanche (réalisation et caractérisation des échantillons) sur des équipements 300mm partagés avec la production et à analyser les résultats obtenus.

**Nature du financement**:
**Précisions sur le financement**:
**Présentation établissement et labo d'accueil**:

- StmicroelectronicsSTMicroelectronics is a leading semiconductor company, a world key player thanks to our 43,200 employees including 8,300 working in R&D.

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Formation matériaux
Dynamisme, autonomie, esprit d'équipe, communication