Stage - Optimisation D’un Procédé de Gravure
il y a 6 jours
Chez ST, nous croyons à la puissance de la technologie pour stimuler l'innovation et avoir un impact positif sur les personnes, les entreprises et la société. Nous sommes une entreprise mondiale de semi-conducteurs, et notre technologie avancée ainsi que nos puces constituent la partie invisible du monde dans lequel nous vivons aujourd'hui.
Lorsque vous rejoignez ST, vous faites partie d'une entreprise globale de plus de 115 nationalités et présente dans 40 pays, avec plus de 50 000 créateurs et fabricants de technologies microélectroniques à travers le monde Tous ensemble, nous formons une seule et même ST.
ST a reçu la certification Top Employer France et le label HappyTrainees 2024 qui nous reconnaissent en tant qu’employeur de référence et démontrent notre engagement à placer l’humain au cœur de nos priorités.
Vous intégrerez une équipe dynamique, au sein du département WET R&D (traitement de surfaces par voie liquide), composée de 23 personnes.
Au sein de cette équipe, vous serez en charge d’optimiser un procédé de gravure du nitrure de silicium par voie liquide, afin de réduire la présence de silicates et d’améliorer le rendement de nos produits.
Le sujet se découpera en plusieurs axes de travail:
- Élaborer un protocole expérimental pour des tests pilotes
- Développer une méthode de caractérisation de surface
- Optimiser et proposer un procédé en variant les différents paramètres à disposition
Le tout en gardant un œil sur l’aspect éco-conception, indispensable pour les enjeux environnementaux de l’industrie de la microélectronique.
Nous rejoindre, c'est aussi opter pour un meilleur équilibre entre vie professionnelle et vie personnelle, et un environnement de travail offrant des opportunités égales. Des groupes de ressources dédiés aux femmes, aux LGBTQIA+, des possibilités d’organisation du travail hybrides font partie des nombreuses initiatives qui font de ST un endroit propice pour le développement de votre carrière.
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il y a 4 jours
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il y a 3 jours
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