Fabrication à L'échelle Atomique

Description du poste

**Domaine**:

- Sciences pour l'ingénieur

**Contrat**:

- Stage

**Intitulé de l'offre**:

- Fabrication à l'échelle atomique : Dépôt sélectif localisé (ASD) de TiN H/F

**Sujet de stage**:

- La fabrication de futurs dispositifs nanoélectroniques nécessite des techniques innovantes de patterning pour passer à des architectures 3D. En parallèle de l'approche conventionnelle de lithographie/gravure, le dépôt sélectif localisé ou Area Selective Deposition (ASD) par dépôt de couches atomiques (ALD) pourrait permettre de simplifier ces intégrations, comme par ex. dans le cas de mémoires 3D avec une électrode réalisée par ASD.

**Durée du contrat (en mois)**:

- 6 mois

**Description de l'offre**:
**Rejoignez-nous en Stage **
- CEA Tech Corporate from CEA Tech on Vimeo.- En tant que stagiaire au CEA, vous aurez l'opportunité de travailler au sein d'un environnement de recherche de renommée mondiale. Nos équipes sont composées d'experts passionnés et dédiés, offrant un cadre propice à l'apprentissage et à la collaboration. Vous aurez accès à des équipements de pointe et à des ressources de recherche de premier ordre pour mener à bien vos missions.**Description du poste**:

- L’objectif de ces travaux est d’étudier l’ASD de TiN déposé par ALD. Une approche consiste à fonctionnaliser la surface avec un inhibiteur de croissance. Les recherches récentes se tournent vers le développement d’inhibiteurs déposés par des techniques sous vide [1,2]. L’un des aspects novateurs de ce sujet est l’utilisation de couches inhibitrices à base de carbone amorphe [3] déposées par PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) pour le dépôt localisé de couches métalliques.- Ce stage de 6 mois se déroulera au CEA-LETI, dans le service de dépôt de matériaux avancés. L’étudiant aura accès aux plateformes de réalisation en salle blanche pour les dépôts de couches minces (a-CH PECVD, TiN ALD) et à la plateforme de nanocaractérisation. Des analyses de surface et caractérisations des couches minces (ellipsométrie, FTIR, angle de contact, AFM, XPS, Tof-SIMS) permettront d’identifier la meilleure sélectivité.Pour aller plus loin:Mots clés:
- Stage M2 6 mois ; Nanotechnologies ; Matériau couche mince; ALD, PECVD ; Sélectivité, ASD ; Nanocaractérisation**Moyens / Méthodes / Logiciels**:

- Plateformes technologiques de réalisation et de nanocaractérisation

**Qu’attendons-nous de vous ?**
- Vous préparez un diplôme de niveau Master2 ou école d'ingénieur en Matériaux / Microélectronique / Physique - ChimieVous êtes force de proposition et faites preuve d'esprit de synthèse, d'autonomie, de rigueur ainsi que d'esprit d'équipe.**Rejoignez-nous, venez développer vos compétences et en acquérir de nouvelles **

Localisation du poste

**Site**:

- Grenoble

**Localisation du poste**:

- France

**Ville**:

- Grenoble

**Langues**:

- Anglais (Courant)

**Diplôme préparé**:

- Bac+5 - Master 2

**Formation recommandée**:

- Ecole d'ingénieur ou Master 2

**Possibilité de poursuite en thèse**:

- Non

Demandeur

**Disponibilité du poste**:

- 03/02/2025

Informations générales

**Entité de rattachement**:
Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.

Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.

Implanté au cœur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.

Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales:

- La conscience des responsabilités
- La coopération
- La curiosité

**Référence **:2024-33162**Description de l'unité**:

- Laboratoire de dépôts de matériaux avancés

En nous rejoignant, vous contribuerez au développement de matériaux couches minces utilisés dans l'industrie française et européenne de demain.