Emplois actuels liés à Stage - Optimisation de la Calibration de Modèle de Lithographie H/F - Grenoble - Cea


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    Description du poste **Domaine**: - Technologies micro et nano **Contrat**: - Stage **Intitulé de l'offre**: - Stage - Optimisation de la calibration de modèle de lithographie H/F **Sujet de stage**: - Optimisation de la calibration de modèle de lithographie **Durée du contrat (en mois)**: - 6 **Description de l'offre**: - Les dispositifs...


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    Description du poste **Domaine**: - Défis technologiques **Contrat**: - Alternance **Durée du contrat (en mois)**: - 36 **Description de l'offre**: **Rejoignez-nous en alternance !** - Nous vous proposons d’intégrer le laboratoire de lithographie avancé au sein du CEA-LETI, dans la DRT dans le cadre d’une alternance en tant qu'ingénieur(e) de...


  • Grenoble, Auvergne-Rhône-Alpes, France CEA Temps plein

    Informations générales Entité de rattachement Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un...


  • Grenoble, France Cea Temps plein

    Nous rejoindre, pour quoi faire ? Afin de répondre aux défis technologiques des noeuds avancés, vous serez chargé(e) de pousser à leurs limites les nouveaux équipements de lithographie de dernière génération, tels que le scanner 193 nm immersion NXT :2050i, le premier de ce model installé en Europe, ou encore le scanner 248 nm. Vous travaillerez en...


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    Informations générales Entité de rattachement Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un...


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    Nous rejoindre, pour quoi faire ?Afin de répondre aux défis technologiques des nœuds avancés, vous serez chargé(e) de pousser à leurs limites les nouveaux équipements de lithographie de dernière génération, tels que le scanner 193 nm immersion NXT :2050i, le premier de ce model installé en Europe, ou encore le scanner 248 nm. Vous travaillerez en...


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    Informations générales Entité de rattachement Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un...


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    Stage - Méthodes de calibration intégrables sur silicium pour architectures de réseaux de neurones H/F CEA Grenoble, Auvergne-Rhône-Alpes, France Nous rejoindre, pour quoi faire ? Au sein de notre laboratoire de 15 personnes, qui travaillent au développement de capteurs d’images et à l’intégration d’algorithmes, votre stage consistera à...


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    Informations générales Entité de rattachement Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un...


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    Informations générales Entité de rattachement Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un...

Stage - Optimisation de la Calibration de Modèle de Lithographie H/F

il y a 2 semaines


Grenoble, France Cea Temps plein

Les dispositifs microélectroniques à haute densité de circuits sont très demandés et font l'objet de nombreuses recherches et développements dans l'industrie. L'un des moyens d'obtenir une densité de circuits plus élevée consiste à réduire la dimension ou le pas des motifs. Cependant, à mesure que la dimension des motifs diminue, les défis liés à la fabrication augmentent. Des techniques d'amélioration de la résolution (RET), telles que la correction des effets de proximité optique (OPC), doivent donc être utilisées pour générer les masques. La correction de proximité optique (OPC) vise à améliorer la fidélité des motifs sur wafer en compensant les erreurs dues aux effets optiques ou de procédés pendant les étapes de fabrication. Pour mettre en oeuvre cette correction, un modèle de lithographie est nécessaire. Elle comprend un modèle optique du système d'exposition et un modèle de résine photosensible. Ces modèles sont calibrés à l'aide d'un très grand volume de données expérimentales, qui comprennent des mesures CD-SEM et des contours extraits d'images SEM. L'acquisition des données et le post-traitement des images constituent un goulot d'étranglement dans le flux de calibration des modèles, consommant énormément de temps et de ressources. Ce stage vise à optimiser la calibration des modèles de lithographie, en étudiant l'impact des données d'entrée sur la qualité des modèles obtenus. Vous travaillerez avec un logiciel de lithographie computationnelle en étroite collaboration avec l'équipe de patterning computationnelle. La Direction de la Recherche Technologique, qui sommes-nous ? Plus de 4.000 personnes investies dans les enjeux sociétaux Avec sa Direction de la Recherche Technologique (DRT), le CEA agit comme un accélérateur d'innovation au service de l'industrie pour tous les secteurs d'activités, répondant ainsi aux enjeux liés à notre santé, notre sécurité, nos technologies d'information, notre avenir énergétique. CEA Tech Corporate from CEA Tech on Vimeo. Rejoignez-nous en stage