Post Doctorant IRL Georgia Tech
Il y a 2 mois
Informations générales
Intitulé de l'offre : Post Doctorant IRL Georgia Tech - CNRS en croissance de couches phase vapeur aux organométalliques (MOVPE) H/F
Référence : IRL2958-CRICOR-016
Nombre de Postes : 1
Lieu de travail : METZ
Date de publication : mardi 1 octobre 2024
Type de contrat : CDD Scientifique
Durée du contrat : 12 mois
Date d'embauche prévue : 18 novembre 2024
Quotité de travail : Temps complet
Rémunération : 2991,58 € bruts mensuels selon expérience
Niveau d'études souhaité : Niveau 8 - (Doctorat)
Expérience souhaitée : Indifférent
Section(s) CN : Micro et nanotechnologies, micro et nanosystèmes, photonique, électronique, électromagnétisme, énergie électrique
Missions
Ce poste postdoctoral s'inscrit dans le cadre du projet Carnot . L'objectif de ce projet est de développer une méthode novatrice pour la croissance et le transfert de couches épaisses de nitrure de gallium (GaN) sur des substrats métalliques, pour des applications en électronique de puissance.
Activités
La croissance de GaN sur des substrats d'Al2O3 ou de Si entraîne des couches fortement contraintes et contenant de nombreux défauts. Par conséquent, une approche différente est proposée, consistant à utiliser des pseudo-substrats de hBN/Al2O3 pour la croissance de couches épaisses de GaN et leur transfert sur des substrats métalliques.
L'objectif de ce poste est d'étudier la croissance de couches épaisses de GaN par épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (MOVPE) sur des pseudo-substrats de hBN/Al2O3. Le candidat examinera différents paramètres de croissance ainsi que la contrainte dans les couches épitaxiées.
Compétences
Le candidat idéal doit être titulaire d'un doctorat en ingénierie, en physique ou en science des matériaux, avec une expérience en Épitaxie MOVPE et caractérisations.
Contexte de travail
IRL 2958 Georgia Tech - CNRS
Le poste se situe dans un secteur relevant de la protection du potentiel scientifique et technique (PPST), et nécessite donc, conformément à la réglementation, que votre arrivée soit autorisée par l'autorité compétente du MESR.
Le poste se situe dans un secteur relevant de la protection du potentiel scientifique et technique (PPST), et nécessite donc, conformément à la réglementation, que votre arrivée soit autorisée par l'autorité compétente du MESR.
Contraintes et risques
Travail dans un environnement bilingue
Travail Experimental en manipulant des gaz neutre (H2 et N2) et actifs (Organometalliques, Hydrures)
Informations complémentaires
L'objectif de ce poste est d'étudier la croissance de couches épaisses de GaN par épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (MOVPE) sur des pseudo-substrats de hBN/Al2O3. Le candidat examinera différents paramètres de croissance ainsi que la contrainte dans les couches épitaxiées.
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Post Doctorant Irl Georgia Tech
Il y a 2 mois
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Post Doctorant IRL Georgia Tech
il y a 2 semaines
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Doctorant en Calculateur Analogique Neuromorphique
il y a 3 semaines
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il y a 3 semaines
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Ingénieur de Recherche en Développement de Biocapteurs
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Postdoctoral Researcher IRL Georgia Tech
il y a 1 mois
Metz, Grand Est, France CNRS Temps pleinJob SummaryWe are seeking a highly motivated postdoctoral researcher to join our team at CNRS in Metz, France. The successful candidate will work on the development of a novel method for growing and transferring thick GaN layers on metallic substrates for power electronics applications.Key ResponsibilitiesDesign and conduct experiments to study the growth of...
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il y a 1 mois
Metz, Grand Est, France CNRS Temps pleinJob SummaryWe are seeking a highly motivated postdoctoral researcher to join our team at CNRS in Metz, France. The successful candidate will work on the development of a novel method for growing and transferring thick GaN layers on metallic substrates for power electronics applications.Key ResponsibilitiesDesign and conduct experiments to study the growth of...
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Ingénieur de Recherche en Développement de Biocapteurs
il y a 3 semaines
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Spécialiste en Dopage Photo-Induit dans le Nitrure de Bore Hexagonal
il y a 3 semaines
Metz, Grand Est, France CNRS Temps pleinInformations GénéralesTitre de l'Offre : Spécialiste en Dopage Photo-Induit dans le Nitrure de Bore HexagonalRéférence : IRL2958-CRICOR-018Nombre de Postes : 1Lieu de Travail : CNRSType de Contrat : CDD Doctorant/Contrat DoctoralDurée du Contrat : 36 MoisQuotité de Travail : Temps CompletRémunération : La Rémunération est d'un Minimum de 2200,00...
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Spécialiste en Dopage photo induit dans le nitrure de bore hexagonal
il y a 3 semaines
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Postdoctorant en croissance de couches de GaN
il y a 3 semaines
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