Postdoctorat en étude des guides d'ondes optomécaniques périodiques
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Vos missions en quelques mots
Missions :
L'objectif de ce travail est l'étude de la structuration périodique des guides d'ondes optomécaniques. Ce travail comprendra le développement et l'optimisation d'outils de simulation optique et mécanique pour la conception de guides d'ondes optomécaniques périodiques. Les résultats numériques seront combinés avec des modèles simplifiés basés sur la physique pour trouver les dimensions optimales maximisant l'efficacité du couplage entre les modes optique et mécanique
Activités :
L'activité de recherche développée au cours de cette étape comprendra une étude théorique des structures optomécaniques de pointe afin de comprendre leurs principes et leurs limites. Les travaux comprendront également l'élaboration de modèles simplifiés basés sur la physique régissant le couplage optomécanique. Ces modèles simplifiés permettront d'optimiser les guides d'ondes optomécaniques
Contexte de travail :
Le travail sera réalisé au sein de l'équipe Photonique sur Silicium du Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies (C2N), unité mixte de recherche du CNRS et de l'Université Paris-Saclay. L'équipe mène des activités de recherche de pointe dans le domaine de la photonique intégrée, notamment en photonique sur silicium, en optomécanique et dans le développement de dispositifs photoniques innovants. Le/la candidat(e) évoluera dans un environnement scientifique dynamique et international, bénéficiant d'infrastructures technologiques de premier plan, notamment des plateformes de nanofabrication en salle blanche et des équipements avancés de caractérisation optique. Le travail s'inscrira dans une démarche collaborative, avec des interactions régulières avec les chercheurs, ingénieurs, doctorants et partenaires académiques de l'équipe.
Profil recherché
Competences :
Le/la candidat(e) devra posséder de solides compétences en nanofabrication en salle blanche, ainsi qu'une expérience en conception, simulation et caractérisation de dispositifs photoniques intégrés. Une bonne maîtrise des techniques de micro- et nanofabrication, notamment la lithographie et les procédés de gravure, sera particulièrement appréciée. Des connaissances en photonique sur silicium, en optique intégrée et en méthodes de caractérisation optique constitueront des atouts supplémentaires. Le/la candidat(e) devra également faire preuve d'autonomie, de rigueur scientifique et d'une capacité à travailler en équipe dans un environnement de recherche pluridisciplinaire et international.
Contraintes et risques :
Risques liés au travail en salle blanche et à l’utilisation de lasers.
Niveau d'études minimum requis
- Niveau Niveau 8 Doctorat/diplômes équivalents
- Spécialisation Formations générales
Langues
- Français Seuil